设备展示

代工设备

无掩膜光刻机

? 品牌:microlight3D
? 光源:385nm曝光/590nm对准
? 最小尺寸:1.5um
? 拼接精度:< 1um

接触式光刻机

? 光源:365nm UV
? 分辨率:1um
? 对准精度:±0.8um
? 曝光能量密度:>25mW/cm2

-

硅刻蚀系统

? 品牌:Leuven
? 衬底:硅、金属、化合物半导体等
? 片内刻蚀均匀性:< 5%
? 片间刻蚀均匀性:< 5%
? Bosch工艺,高深宽比

-

电感耦合等离子体刻蚀系统

? 品牌:Oxford
? 温度:-150~400℃
? 离子密度:>1011cm3 ? 出色的跨晶圆均匀性
? 出色的剖面控制
? 高刻蚀率、高选择性和低损伤加工

-

原子层沉积系统

? 品牌:Picosun
? 衬底尺寸:50~200mm/单片
? 温度:50~500℃
? 电源功率:300W
? 前驱体:O2 Plasma、Hf等

-

等离子体增强化学气相沉积系统

? 品牌:Leuven
? 腔室极限真空:< 10mTorr
? 温度:200~400℃
? 激励电源频率:13.56MHz
? 激励电源功率:1KW

-

高真空磁控溅射镀膜仪

? 品牌:VPI
? 真空泵:旋转真空泵+涡轮分子泵
? 极限真空度:5×10-5Pa
? 腔体尺寸:Φ260*200mm
? 电源功率:< 3000W

-

晶圆键合系统

? 品牌:SUSS
? 最高温度:550℃
? 最大压力:20kN
? 最大真空度:100mbar

-

充磁机

品牌:szjiuju

-

烤胶机

? 品牌:memstools

-

匀胶机

品牌:Osiris

-

等离子清洗机

? 品牌:SAT

测试设备

-

二次离子质谱仪

? 品牌:iontof
? 横向分辨率:< 50nm
? 质量分辨率:> 30000
? 广域动态范围与检测限

-

扫描电子显微镜

? 品牌:zeiss
? 二次电子图像分辨率:0.8nm
? ESB图像分辨率:1.2nm
? 加速电压:0.02~30kV
? 放大倍数:12~2000000x

-

白光干涉仪

? 品牌:KLA
? 垂直扫描分辨率:0.01nm
? 水平分辨率:<0.38um
? RMS重复精度:1nm
? 校正精度:< 0.1%

-

探针式轮廓仪

? 品牌:Bruker
? 垂直扫描范围:1mm
? 垂直扫描分辨率:1?
? 单次扫描采集点:最大120000
? 台阶高度重复性:< 5?

-

激光扫描共聚焦显微镜

? 品牌:Olympus
? 最大扫描分辨率:4096*4096
? 光学变焦:1~50倍,增量0.01倍
? 扫描旋转:360度自由旋转,步进0.1度
? z轴精度:0.01um

-

超景深显微系统

? 品牌:Keyence
? 时效像素:1600*1200
? 最大扫描帧率:50F/s
? 高清晰动态范围:RGB 16bit

联系方式

地址:北京市昌平区高新五街五号院北大创新谷国信园
联系人:高经理
联系邮箱:gaoyongjia@weinadongli.com

XML 地图 | Sitemap 地图